半导体制造车间消除气态污染物的新方法

       半导体光刻车间光刻胶挥发物和溶剂挥发物浓度高，氨是碱性污染物。由于车间空气高度洁净，所以不能依靠换风方式降低气态污染物浓度。

       用化学吸附材料放在中央空调回风口或回风管道中可固定气态污染物，而且吸附材料产生的微小颗粒能被通风系统的过滤器消除，无损洁净室的洁净度。但是吸附材料容易饱和，化学品为K2O在氧化过程中形成羧酸钾，或骆合氨消耗，所以必定为耗材，要更换。这不仅是费用，而且在洁净室操作更换是很不合理的。

新产品高能低温等离子体配合离子板装置，阻力极低，可放在回风管道中，可面对高风速，对中央空调系统的阻力影响极小。

该装置的特点是，

1、高能低温等离子体空气放电施加12KV高电压，而通常中央空调的电子除尘器空气放电电压8KV。随放电电压提高，气态分子荷电氧化能力将以电压提高倍率的平方甚至立方提高。氨尤其突出。高能低温等离子体收集段的电极板间隔比中央空调电子除尘器大一倍，容易清洗，应用在洁净的中央空调系统中可长期稳定助力降低颗粒物浓度。

2、高电压下空气放电的臭氧在跟随的离子板段被无阻力破坏，一次性通过的破坏率超过80%，因此释放到室内形成的臭氧浓度低于室内空气质量标准。这构成了人机共存。

3、臭氧破坏的同时借助离子板的电离态水分子参与产生过氧化氢，而且立即在电场中电离，因此离子板上产生电离态过氧化氢。离子板段保持一定长度，使气态污物能在一定时间内通过电离态过氧化氢包围，利于气态污染物多次氧化，促进CO2和H2O形成。一次性通过的矿化率接近20%。因此多次循环风通过后室内气态污染物浓度将明显降低。而且依据该矿化率和根据室内终末气态污染物浓度要求测算，本机单机的数量无需覆盖全回风道，只需要部分气流通过。

市场有售过氧化氢低温等离子体医疗器械消毒器，以气化双氧水产生气态过氧化氢，通过低温等离子体后为电离态，并在一段时间能保持电离态持续作用在被消毒物体表面。该装置提示了电离态过氧化氢的特点，是本装置氧化气态污染物的参考。

4、本机还有3段规格机，以SiO2为基材的吸附协同滤筒（板）作为第三段，能将一次性通过的污染气态分子矿化率明显提高，而且在电离态过氧化氢作用下材料自洁，不为耗材。

如果3段规格机能放在车间内，可放置在空调回风口下。